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無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統

 

無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統為太陽能/光伏硅片及其他材料提供快速、多通道的厚度、(總厚度變化)TTV、翹曲及無接觸電阻率測量功能。并提供基于TCP/IP的數據傳輸接口及基于Windows的控制軟件,用以進行在線及離線數據管理功能。。



無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統 - 產品特點

使用MTI Instruments獨有的推/拉電容探針技術
每套系統提供最多三個測量通道
可進行最大、最小、平均厚度測量和TTV測量
可進行翹曲度測量(需要3探頭)
用激光傳感器進行線鋸方向和深度監視(可選)
集成數據采集和電氣控制系統
為工廠測量提供快速以太網通訊接口,速率為每秒5片
可增加的直線厚度掃描數量
與現有的硅片處理設備有數字I/O接口
基于Windows的控制軟件提供離線和在線的數據監控
提供標準及客戶定制的探頭
提供基于Windows的動態鏈接庫用于與控制電腦集成
用渦電流法測量硅片電阻率



無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統 - 技術指標

晶圓硅片測試尺寸:50mm- 300mm.
厚度測試范圍:1.7mm,可擴展到2.5mm.
測厚度測試精度:+/-0.25um
厚度重復性精度:0.050um
測量點直徑:8mm
 TTV 測試精度:  +/-0.05um
TTV重復性精度: 0.050um
彎曲度測試范圍: +/-500um [+/-850um]                                           
彎曲度測試精度: +/-2.0um
彎曲度重復性精度: 0.750um
電阻率測量范圍:5-2000ohm/sq(0.1-40ohm-cm)
電阻率測量精度:2%
電阻率測量重復精度:1%
晶圓硅片類型:單晶或多晶硅
材料:Si,GaAs,InP,Ge等幾乎所有半導體材料
可用在:切片后、磨片前、后,蝕刻,拋光以及出廠、入廠質量檢測等
平面/缺口:所有的半導體標準平面或缺口
硅片安裝:裸片,藍寶石/石英基底,黏膠帶
連續5點測量




無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統 - 應用范圍

切片
線鋸設置
厚度
總厚度變化TTV
 監測:導線槽、刀片更換
TTV重復性精度: 0.050um
  磨片/刻蝕和拋光                                      
過程監控
總厚度變化TTV
材料去除率
彎曲度
翹曲度
平整度
研磨
材料去除率
最終檢測
硅抽檢或全檢
終檢厚度




無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統 - 典型客戶

美國,歐洲,亞洲及國內太陽能及半導體客戶。


 

 

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